半导体器件有许多封装形式,按封装的外形、尺寸、结构分类可分为引脚插入型、表面贴装型和高级封装三类。从DIP、SOP、QFP、PGA、BGA到CSP再到SIP,技术指标一代比一代先进。总体说来,半导体封装经历了三次重大革新:第一次是在20世纪80年代从引脚插入式封装到表面贴片封装,它极大地提高了印刷电路板上的组装密度;第二次是在20世纪90年代球型矩阵封装的出现,满足了市场对高引脚的需求,改善了半导体器件的性能;芯片级封装、系统封装等是现在第三次革新的产物,其目的就是将封装面积减到最小。
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半导体封测基本概念
半导体产业链包括芯片设计、芯片制造、封装测试等部分,其中下游涵盖各种不同行业。此外,为产业链提供服务支撑包括为芯片设计提供IP核及EDA设计工具公司、为制造封测环节提供设备材料支持的公司等。
▼半导体产业链概况
▼半导体先进封装系列平台
半导体封测产业发展趋势
半导体产品在由二维向三维发展,从技术发展方向半导体产品出现了系统级封装(SiP)等新的封装方式,从技术实现方法出现了倒装(FlipChip),凸块(Bumping),晶圆级封装(Waferlevelpackage),2.5D封装(interposer,RDL等),3D封装(TSV)等先进封装技术。
SoCvs.SiP
►SoC:全称System-on-chip,系统级芯片,是芯片内不同功能电路的高度集成的芯片产品。
►SiP:全称System-in-package,系统级封装,是将多种功能芯片,包括处理器、存储器等功能芯片集成在一个封装内,从而实现一个基本完整的功能。
随着摩尔定律的放缓,半导体行业逐渐步入后摩尔时代,SoC与SiP都是实现更高性能,更低成本的方式。一般情况下,从集成度来讲,SoC集成度更高,功耗更低,性能更好;而SiP的优势在灵活性更高,更广泛的兼容兼容性,成本更低,生产周期更短。所以,面对生命周期相对较长的产品,SoC更加适用。对于生命周期短,面积小的产品,SiP更有优势,灵活性较高。
▼摩尔定律vs.超越摩尔
传统封装概念从最初的三极管直插时期后开始产生。传统封装过程如下:将晶圆切割为晶粒(Die)后,使晶粒贴合到相应的基板架的小岛(LeadframePad)上,再利用导线将晶片的接合焊盘与基板的引脚相连(WireBond),实现电气连接,最后用外壳加以保护(Mold,或Encapsulation)。典型封装方式有DIP、SOP、TSOP、QFP等。
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封装行业的发展进程
IEEE在2018年5月的电子元件和技术大会上推出2.x式命名法,但这一命名方法的行业接受程度有待观察。我们将在先进封装领域主要讨论倒装(FlipChip),凸块(Bumping),晶圆级封装(Waferlevelpackage),2.5D封装(interposer,RDL等),3D封装(TSV)等技术。
▼IEEE先进封装命名法
►封装:集成电路封装是半导体器件制造的最后一步。封装是指将制作好的半导体器件放入具有支持,保护的塑料,陶瓷或金属外壳中,并与外界驱动电路及其他电子元器件相连这一过程。经过封装的半导体器件将可以在更高的温度环境下工作,抵御物理的损害与化学腐蚀。封装给半导体器件带来了更佳的性能表现与耐用度。
►测试:这里的半导体测试指的是封装后测试。测试把已经制造完毕的半导体元器件进行结构和电气功能的确认,测试的目的是排除电子功能差的芯片,以保证其各项性能符合系统的要求。测试也可以被称为“终段测试”,与晶圆探针测试(封装前测试)不同
▼简易传统封装流程
先进封装提高加工效率,提高设计效率,减少设计成本。先进封装主要包括倒装类(FlipChip,Bumping),晶圆级封装(WLCSP,FOWLP,PLP),2.5D封装(Interposer)和3D封装TSV)等。以晶圆级封装为例,产品生产以圆片形式批量生产,可以利用现有的晶圆制备设备,封装设计可以与芯片设计一次进行。这将缩短设计和生产周期,降低成本。
先进封装提高封装效率,降低产品成本。随着后摩尔定律时代的到来,传统封装已经不再能满足需求。传统封装的封装效率(裸芯面积/基板面积)较低,存在很大改良的空间。芯片制程受限的情况下,改进封装便是另一条出路。举例来说,QFP封装效率最高为30%,那么70%的面积将被浪费。DIP、BGA浪费的面积会更多。
▼传统封装技术效率
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先进封装技术及发展趋势
先进封装:Flip-Chip&Bumping
FlipChip指的是芯片倒装,以往的封装技术都是将芯片的有源区面朝上,背对基板和贴后键合。而FlipChip则将芯片有源区面对着基板,通过芯片上呈阵列排列的焊料凸点(Bumping)实现芯片与衬底的互联。硅片直接以倒扣方式安装到PCB从硅片向四周引出I/O,互联长度大大缩短,减小了RC(Resistance-Capacitance)延迟,有效的提高了电性能。
FlipChip的优势主要在于以下几点:小尺寸,功能增强(增加I/O数量),性能增强(互联短),提高了可靠性(倒装芯片可减少2/3的互联引脚数),提高了散热能力(芯片背面可以有效进行冷却)。
▼Flip-Chip流程图
▼Bumping示意
FlipChip是先进封装成长主要动力。根据Yole预测,受移动无线(尤其是智能手机)、LED、CMOS图像传感器的驱动,倒装芯片需求将从2014年的1600万片(等效12寸晶圆)增长到2020年的3200万片,市场产值将达到250亿美元。
▼先进封装市场发展预测
其中镀金晶圆凸点(Au-platedwaferbumping)将稳定增长,由于IC显示驱动器(4K2K超高清电视和高清晰度、大屏幕平板电脑和智能手机)的市场驱动。预计产能将以4%的复合年增长率扩大,从2014年的430万片增长到2020年的540万片。
金钉头凸点(Austudbumping)产能将略有下滑,从2014年的30.4万片降到2020年的29.3万片,主要原因是射频器件从倒装芯片转移至晶圆级芯片尺寸封装(WLCSP)。但是,新兴应用的需求将增加,如CMOS图像传感器模组、高亮度LED等。
中道封装技术需求增长,将带来行业上下游的跨界竞争。针对3DIC和2.5D中介层平台的“中端工艺(middleend-process)”基础设施的出现将使Fab和IDM受益,并在较小程度上分给OSAT。2.5D中介层平台的发展将会产生价值的转移,从衬底供应商转向前端代工厂。
▼倒装芯片按Bumping类型发展趋势
首先我们先要提及Wafer-levelpackaging(WLP,晶圆级封装)的概念。在传统封装概念中,晶圆是先被切割成小的晶粒,之后再进行连接和塑封。而晶圆级封装工序恰好相反,晶圆级封装将晶粒在被切割前封装完成,保护层将会被附着在晶圆的正面或是背面,电路连接在切割前已经完成。
▼晶圆级封装示意图
FOWLP:全称Fan-outWafer-levelpackaging,扇出式晶圆级封装,开始就将晶粒切割,再重布在一块新的人工模塑晶圆上。它的优势在于减小了封装的厚度,增大了扇出(更多的I/O接口),获得了更优异的电学性质及更好的耐热表现。
▼扇出式封装发展历史
根据Yole的预测,2018年以前FOWLP的主要驱动为苹果智能手机的处理器芯片,2018年以后的FOWLP的主要驱动除了其他安卓手机处理器的增长,主要是高密度FOWLP在其他处理芯片的应用,如AI、机器学习、物联网等领域。
►PLP:全称Panel-levelpackaging,平板级封装,封装方法与FOWLP类似,只不过将晶粒重组于更大的矩形面板上,而不是圆形的晶圆。更大的面积意味着节约更多的成本,更高的封装效率。而且切割的晶粒为方形,晶圆封装会导致边角面积的浪费,矩形面板恰恰解决了浪费问题。但也对光刻及对准提出了更高的要求。
▼PLP与WLP的尺寸对比
►RDL(Redistributionlayer,再分布层):在晶圆水平上,触点再分布可以很高效的进行。再分布层用于使连线路径重新规划,落到我们希望的区域,也可以获得更高的触点密度。再分布的过程,实际上是在原本的晶圆上又加了一层或几层。首先淀积的是一层电介质用于隔离,接着我们会使原本的触点裸露,再淀积新的金属层来实现重新布局布线。UBM在这里会被用到,作用是支撑焊锡球或者其他材料的接触球。
►中介层(Interposer):指的是焊锡球和晶粒之间导电层。它的作用是扩大连接面,使一个连接改线到我们想要的地方。与再分布层作用类似。
▼再分布层(RDL)示意
►TSV(Through-siliconvia,硅通孔):Bump和RDL会占用芯片接合到基板上的平面面积,TSV可以将芯片堆叠起来使三维空间被利用起来。更重要的是,堆叠技术改善了多芯片连接时的电学性质。引线键合可以被用于堆叠技术,但TSV吸引力更大。TSV实现了贯穿整个芯片厚度的电气连接,更开辟了芯片上下表面之间的最短通路。芯片之间连接的长度变短也意味着更低的功耗和更大的带宽。TSV技术最早在CMOS图像传感器中被应用,未来在FPGA、存储器、传感器等领域都将被应用。根据Yole预测,2016~2021年,应用TSV技术的晶圆数量将以10%的年复合增长率增长。3D存储芯片封装也会在将来大量的用到TSV。
▼3DIC和TSV技术演进路径
▼PoP技术演进趋势
▼MEMS封装技术示意图
▼MEMS封装市场情况预测
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原标题:《半导体封测技术发展趋势》